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한국의 메모리 반도체 기술 수준이 중국과 같아진 반면, 고성능·저전력 AI 반도체에서는 중국이 앞선 것으로 집계됐다.
김남국 더불어민주당 의원은 과학기술정보통신부와 한국과학기술기획평가원(KISTEP) 자료를 분석해 이 같은 결과를 2026년 10월 23일 공개하며, 정부의 대형 연구개발 사업이 2027년에야 본격 착수하는 점을 문제로 제기했다.
KISTEP 기술수준평가에서 고집적·저항기반 메모리는 최고기술 보유국인 미국을 100%로 놓았을 때 한국과 중국이 모두 95%였다. 메모리의 고용량화와 저전력화에 중요한 기술 분야다. 최고기술에 도달하는 데 걸리는 기간을 뜻하는 기술격차는 한국 0.6년, 중국 0.5년으로 차이가 0.1년에 그쳤다.
한국이 우위를 유지한다고 보기 어려울 만큼 근접한 수치다.
AI 반도체의 결과는 달랐다. 고성능·저전력 기술 수준은 중국 91%, 한국 85%였고, 기술격차도 중국 0.9년 대 한국 1.5년으로 중국이 앞섰다. 김 의원은 CXMT 등 중국 D램 기업이 국가적 투자를 바탕으로 기술 개발과 양산 추격을 가속하고 있다고 지적했다.
그런데 국내 핵심 대형 R&D 사업의 착수 시점은 2027년에 집중돼 있다. ‘극미세 적층형 반도체 기술개발’은 1조638억원, ‘차세대 화합물반도체 원천기술개발’은 900억원 규모다. 김 의원은 사업을 앞당겨 집행하고 현장 맞춤형 인재를 양성하며 규제를 풀어야 한다고 촉구했다.
메모리의 근접한 기술 수준과 AI 반도체의 열세를 고려할 때, 정부의 대응 시점과 투자 집행이 관건으로 떠오른다.
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