한국 메모리 기술 수준, 중국과 동률 분석…AI 반도체 격차는 어느 정도인가?

김남국 더불어민주당 의원은 2026년 10월 23일 과학기술정보통신부와 한국과학기술기획평가원(KISTEP) 자료를 분석해, 일부 메모리 기술 수준에서 한국과 중국이 같고 AI 반도체에서는 중국이 앞선 것으로 나타났다고 밝혔다.

KISTEP 기술수준평가는 최고기술 보유국인 미국을 100%로 놓고 국가별 수준을 비교한다. 기술격차는 최고기술에 도달하는 데 필요한 기간을 뜻한다.

고집적·저항기반 메모리는 메모리의 고용량화와 저전력화를 위한 기술이다. 두 나라의 기술 수준은 같지만 최고기술 도달 기간은 중국이 0.1년 짧다. 미래 반도체 시장의 핵심 분야로 꼽히는 AI 반도체에서는 기술 수준과 격차 기간 모두 중국이 앞서며, 김 의원은 한국이 이미 역전을 허용했다고 지적했다.

기술 경쟁 우려의 배경으로는 대형 연구개발(R&D) 사업의 일정도 제시됐다. 과기정통부 자료에 따르면 1조638억원 규모의 ‘극미세 적층형 반도체 기술개발’과 900억원 규모의 ‘차세대 화합물반도체 원천기술개발’은 착수 시점이 모두 2027년으로 잡혀 있다.

김 의원은 CXMT 등 중국 D램 기업이 국가적 투자를 바탕으로 개발과 양산 추격을 가속하는 가운데 주요 사업의 본격 착수가 2027년으로 편성된 점이 기술 경쟁의 골든타임을 놓칠 수 있다는 우려를 낳는다고 밝혔다.

그는 R&D 예산 조기 집행, 현장 맞춤형 인재 양성, 규제 철폐 등 정부·산업계·학계의 신속한 대응을 촉구했다.